Polysiloxane formation from a tetraethoxysilane-ethyl alcohol-oxalic acid system

Yoshiyuki Sugahara*, Shuji Sato, Kazuyuki Kuroda, Chuzo Kato

*この研究の対応する著者

研究成果査読

11 被引用数 (Scopus)

抄録

Polysiloxane formation in a tetraethoxysilane (TEOS)-ethyl alcohol (EtOD(H))-oxalic acid (OA) system without the addition of water was investigated by 29Si nuclear magnetic resonance spectroscopy (29Si-NMR). In the system with TEOS:EtOD(H):OA = 1:6:1, considerable amounts of linear oligosiloxanes possessing only ethoxy groups formed, and (EtO)3SiOSi(OEt)3, (EtO)3SiOSi(OEt)2OSi(OEt)3, and (EtO)3Si(OSi(OEt)2)2OSi(OEt)3 were identified. When the amount of OA increased to TEOS:EtOD(H):OA = 1:6:2, the polymerization rate increased considerably. The observed Si-species scarcely possessed hydroxyls, suggesting unique siloxane formation in this system.

本文言語English
ページ(範囲)24-29
ページ数6
ジャーナルJournal of Non-Crystalline Solids
147-148
C
DOI
出版ステータスPublished - 1992

ASJC Scopus subject areas

  • 電子材料、光学材料、および磁性材料
  • セラミックおよび複合材料
  • 凝縮系物理学
  • 材料化学

フィンガープリント

「Polysiloxane formation from a tetraethoxysilane-ethyl alcohol-oxalic acid system」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

引用スタイル