Post deposition treatment of thin film HfO2dielectric for increased performance in MIM capacitors

Alaric Yohei Kawai Petillot*, Shuichi Shoji, Jun Mizuno

*この研究の対応する著者

研究成果: Conference contribution

フィンガープリント

「Post deposition treatment of thin film HfO2dielectric for increased performance in MIM capacitors」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

Engineering & Materials Science

Chemical Compounds