Preferred orientation and film structure of TaN films deposited by reactive magnetron sputtering

Suguru Noda*, Kun Tepsanongsuk, Yoshiko Tsuji, Yuya Kajikawa, Yoshifumi Ogawa, Hiroshi Komiyama

*この研究の対応する著者

研究成果: Article査読

17 被引用数 (Scopus)

フィンガープリント

「Preferred orientation and film structure of TaN films deposited by reactive magnetron sputtering」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

Engineering & Materials Science

Physics & Astronomy

Chemical Compounds