Preparation and Optical Nonlinear Property of Sol–Gel‐Derived Cu─SiO2 Thin Films

Debtosh Kundu*, Itaru Honma, Toshio Ohsawa, Hiroshi Komiyama

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抄録

Cu‐metal‐doped glass films having a Cu:Si atomic ratio of 0.05 ± 0.002 were successfully prepared by a sol‐gel method using a dipping technique. The appearance of surface plasmon of Cu metal at about 570 nm was observed after heat treatment at or above 700°C. The third‐order nonlinear susceptibility (x3) was as high as 5.0 × 10–8 esu at 570 nm.

本文言語English
ページ(範囲)1110-1112
ページ数3
ジャーナルJournal of the American Ceramic Society
77
4
DOI
出版ステータスPublished - 1994
外部発表はい

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  • セラミックおよび複合材料
  • 材料化学

フィンガープリント

「Preparation and Optical Nonlinear Property of Sol–Gel‐Derived Cu─SiO<sub>2</sub> Thin Films」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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