Preparation of silicon nitride films at room temperature using double-tubed coaxial line-type microwave plasma chemical vapor deposition system

Isamu Kato*, Kazuto Noguchi, Kouji Numada

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フィンガープリント

「Preparation of silicon nitride films at room temperature using double-tubed coaxial line-type microwave plasma chemical vapor deposition system」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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