Process parameter calibration for millimeter-wave CMOS back-end device design with electromagnetic field analysis

S. Amakawa, A. Orii, K. Katayama, K. Takano, M. Motoyoshi, T. Yoshida, M. Fujishima

研究成果: Conference contribution

7 被引用数 (Scopus)

フィンガープリント

「Process parameter calibration for millimeter-wave CMOS back-end device design with electromagnetic field analysis」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

Engineering & Materials Science