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PULSE RADIOLYSIS STUDIES ON THE MECHANISM OF THE HIGH SENSITIVITY OF CHLOROMETHYLATED POLYSTYRENE AS AN ELECTRON NEGATIVE RESIST.
Y. Tabata
*
, S. Tagawa,
M. Washio
*
この研究の対応する著者
研究成果
:
Conference contribution
19
被引用数 (Scopus)
概要
フィンガープリント
フィンガープリント
「PULSE RADIOLYSIS STUDIES ON THE MECHANISM OF THE HIGH SENSITIVITY OF CHLOROMETHYLATED POLYSTYRENE AS AN ELECTRON NEGATIVE RESIST.」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。
並べ替え順
重み付け
アルファベット順
Engineering & Materials Science
Radiolysis
100%
Polystyrenes
68%
Electrons
60%
Absorption spectra
10%
Dry etching
10%
Charge transfer
9%
Positive ions
9%
Durability
6%
Chemical Compounds
Radiolysis
63%
Excimer
32%
Electron Particle
32%
Triplet State
30%
Radical Cation
28%
Etching
27%
Absorption Spectrum
21%