Redox Reactions at Cu,Ag/Ta2O5 Interfaces and the Effects of Ta2O5 Film Density on the Forming Process in Atomic Switch Structures

Tohru Tsuruoka*, Ilia Valov, Stefan Tappertzhofen, Jan Van Den Hurk, Tsuyoshi Hasegawa, Rainer Waser, Masakazu Aono

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フィンガープリント

「Redox Reactions at Cu,Ag/Ta<sub>2</sub>O<sub>5</sub> Interfaces and the Effects of Ta<sub>2</sub>O<sub>5</sub> Film Density on the Forming Process in Atomic Switch Structures」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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