Redox Reactions at Cu,Ag/Ta2O5 Interfaces and the Effects of Ta2O5 Film Density on the Forming Process in Atomic Switch Structures

Tohru Tsuruoka*, Ilia Valov, Stefan Tappertzhofen, Jan Van Den Hurk, Tsuyoshi Hasegawa, Rainer Waser, Masakazu Aono

*この研究の対応する著者

研究成果: Article査読

120 被引用数 (Scopus)

フィンガープリント

「Redox Reactions at Cu,Ag/Ta<sub>2</sub>O<sub>5</sub> Interfaces and the Effects of Ta<sub>2</sub>O<sub>5</sub> Film Density on the Forming Process in Atomic Switch Structures」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

Engineering & Materials Science

Chemical Compounds

Physics & Astronomy