Redox Reactions at Cu,Ag/Ta2O5 Interfaces and the Effects of Ta2O5 Film Density on the Forming Process in Atomic Switch Structures

Tohru Tsuruoka, Ilia Valov, Stefan Tappertzhofen, Jan Van Den Hurk, Tsuyoshi Hasegawa, Rainer Waser, Masakazu Aono

研究成果: Article査読

98 被引用数 (Scopus)

フィンガープリント 「Redox Reactions at Cu,Ag/Ta<sub>2</sub>O<sub>5</sub> Interfaces and the Effects of Ta<sub>2</sub>O<sub>5</sub> Film Density on the Forming Process in Atomic Switch Structures」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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