Reduction of the interfacial Si displacement of ultrathin SiO2 on Si(100) formed by atmospheric-pressure ozone

Akira Kurokawa*, Ken Nakamura, Shingo Ichimura, Dae Won Moon

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フィンガープリント

「Reduction of the interfacial Si displacement of ultrathin SiO2 on Si(100) formed by atmospheric-pressure ozone」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

Physics & Astronomy