Selective deposition of polystyrene nanoparticles in a nanoetchpit array on a silicon substrate

Manabu Tanaka, Takumi Hosaka, Takashi Tanii, Iwao Ohdomari, Hiroyuki Nishide*

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抄録

Nanometer-sized polystyrene particles were selectively deposited by interfacial tension in nanometer-sized etchpit arrays made on a silicon substrate.

本文言語English
ページ(範囲)978-979
ページ数2
ジャーナルChemical Communications
10
8
出版ステータスPublished - 2004 4月 21

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「Selective deposition of polystyrene nanoparticles in a nanoetchpit array on a silicon substrate」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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