Selective silicidation of Co using silane or disilane for anti-oxidation barrier layer in Cu metallization

Suguru Noda*, Rika Hirai, Hiroshi Komiyama, Yukihiro Shimogaki

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フィンガープリント

「Selective silicidation of Co using silane or disilane for anti-oxidation barrier layer in Cu metallization」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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