Si substrate as a SiO2 source for the preparation of mesoporous SiO2TiO2 thin films

Shintaro Hara, Hirokatsu Miyata, Masahiko Takahashi, Atsushi Shimojima, Kazuyuki Kuroda*

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抄録

A Si substrate has been proved to be used as a SiO2 source for the preparation of mesoporous silicatitania thin films with cylindrical mesochannels. Exposing mesostructured titaniasurfactant thin films to aqueous NH3 vapor reinforces the pore walls with uniformly distributed silicate species, which retain the mesostructure after calcination.

本文言語English
ページ(範囲)372-374
ページ数3
ジャーナルChemistry Letters
44
3
DOI
出版ステータスPublished - 2015

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  • 化学 (全般)

フィンガープリント

「Si substrate as a SiO<sub>2</sub> source for the preparation of mesoporous SiO<sub>2</sub>TiO<sub>2</sub> thin films」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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