Single-mode Operation of 1.3-μm Membrane Distributed Reflector Lasers on SiC Wafers

Suguru Yamaoka, Ryo Nakao, Takuro Fujii, Koji Takeda, Tatsurou Hiraki, Hidetaka Nishi, Takaaki Kakitsuka, Tai Tsuchizawa, Shinji Matsuo

研究成果: Conference contribution

抄録

We have fabricated a 1.3-μm membrane distributed reflector (DR) lasers on a SiC substrate using direct-bonding and buried regrowth techniques. The side-mode suppression ratio of ∼40 dB was obtained in room-temperature continuous-wave (RT-CW) operation.

本文言語English
ホスト出版物のタイトル2019 Compound Semiconductor Week, CSW 2019 - Proceedings
出版社Institute of Electrical and Electronics Engineers Inc.
ISBN(電子版)9781728100807
DOI
出版ステータスPublished - 2019 5
外部発表はい
イベント2019 Compound Semiconductor Week, CSW 2019 - Nara, Japan
継続期間: 2019 5 192019 5 23

出版物シリーズ

名前2019 Compound Semiconductor Week, CSW 2019 - Proceedings

Conference

Conference2019 Compound Semiconductor Week, CSW 2019
国/地域Japan
CityNara
Period19/5/1919/5/23

ASJC Scopus subject areas

  • 電子工学および電気工学
  • 産業および生産工学
  • 電子材料、光学材料、および磁性材料
  • 材料化学
  • 原子分子物理学および光学

フィンガープリント

「Single-mode Operation of 1.3-μm Membrane Distributed Reflector Lasers on SiC Wafers」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

引用スタイル