STM observation of rapidly cooled Si(111) vicinal surfaces

F. Katsuki*, K. Kamei

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抄録

The step arrangements on the surfaces of rapidly cooled Si(111) misoriented in [123̄] and [1̄2̄3] are investigated. We show that the step arrangements on the quenched surface are greatly influenced upon the annealing and cooling conditions. We also present the growth process of the (7 × 7) domains on cooling rapidly across the (1 × 1)-(7 × 7) transition temperature.

本文言語English
ページ(範囲)485-492
ページ数8
ジャーナルApplied Surface Science
94-95
DOI
出版ステータスPublished - 1996 3
外部発表はい

ASJC Scopus subject areas

  • 物理化学および理論化学
  • 表面、皮膜および薄膜
  • 凝縮系物理学

フィンガープリント

「STM observation of rapidly cooled Si(111) vicinal surfaces」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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