Structural and morphological control of nanosized Cu islands on SiO 2 using a Ti underlayer

Minghui Hu*, Suguru Noda, Tatsuya Okubo, Yukio Yamaguchi, Hiroshi Komiyama

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抄録

The structural and morphological control of nanosized Cu islands on SiO2 using a Ti underlayer were discussed. It was found that the Cu islands on Ti/SiO2 possessed smaller sizes, shorter interisland distance and a higher number density that those on SiO2. The analysis suggested the fabrication of nanosized islands with the desired wettability and crystalline orientation using an appropriate metal underlayer.

本文言語English
ページ(範囲)3492-3497
ページ数6
ジャーナルJournal of Applied Physics
94
5
DOI
出版ステータスPublished - 2003 9月 1
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  • 物理学および天文学(全般)

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「Structural and morphological control of nanosized Cu islands on SiO 2 using a Ti underlayer」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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