SUBMICRON LITHOGRAPHY USING FOCUSED-ION-BEAM EXPOSURE FOLLOWED BY A DRY DEVELOPMENT.

T. Kato, H. Morimoto, K. Tsukamoto, H. Shinohara, M. Inuishi

研究成果: Conference contribution

フィンガープリント 「SUBMICRON LITHOGRAPHY USING FOCUSED-ION-BEAM EXPOSURE FOLLOWED BY A DRY DEVELOPMENT.」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

Engineering & Materials Science