Subquarter-micrometer dual gate complementary metal oxide semiconductor field effect transistor with ultrathin gate oxide of 2 nm

Masahiro Shimizu*, Takashi Kuroi, Masahide Inuishi, Hideaki Arima, Haruhiko Abe, Chihiro Hamaguchi

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研究成果: Article査読

フィンガープリント

「Subquarter-micrometer dual gate complementary metal oxide semiconductor field effect transistor with ultrathin gate oxide of 2 nm」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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