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Tensor evaluation of stress relaxation profile in strained SiGe nanostructures on Si substrate
M. Tomita
, D. Kosemura, K. Usuda, A. Ogura
研究成果
:
Conference contribution
5
被引用数 (Scopus)
概要
フィンガープリント
フィンガープリント
「Tensor evaluation of stress relaxation profile in strained SiGe nanostructures on Si substrate」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。
並べ替え順
重み付け
アルファベット順
Engineering & Materials Science
Electrons
82%
Finite element method
20%
Nanostructures
100%
Raman spectroscopy
87%
Scattering
77%
Shear stress
15%
Stress relaxation
97%
Substrates
57%
Tensors
81%
Transistors
13%