Theoretical analysis for thermal chemical vapor deposition from Tetraethoxysilane using a semi-empirical molecular orbital method

Mitsuhito Hirota*, Nagahiro Saito, Takahiro Ishizaki, Akio Fuwa

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    フィンガープリント

    「Theoretical analysis for thermal chemical vapor deposition from Tetraethoxysilane using a semi-empirical molecular orbital method」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

    Engineering & Materials Science

    Chemical Compounds

    Physics & Astronomy