Theoretical and experimental analysis on Ar Implantation-Induced Quantum Dot Intermixing for 1550 nm-Band Photonic Integrated Circuit

A. Matsumoto, Y. Akashi, S. Isawa, T. Umezawa, Y. Matsushima, K. Utaka

研究成果: Conference contribution

抄録

In this study, we theoretically and experimentally investigated an Ar ion implantation-induced quantum dot intermixing and its physical mechanism using photoluminescence and numerical simulations for the OD based monolithic PICs.

本文言語English
ホスト出版物のタイトル2019 Conference on Lasers and Electro-Optics, CLEO 2019 - Proceedings
出版社Institute of Electrical and Electronics Engineers Inc.
ISBN(電子版)9781943580576
DOI
出版ステータスPublished - 2019 5
イベント2019 Conference on Lasers and Electro-Optics, CLEO 2019 - San Jose, United States
継続期間: 2019 5 52019 5 10

出版物シリーズ

名前2019 Conference on Lasers and Electro-Optics, CLEO 2019 - Proceedings

Conference

Conference2019 Conference on Lasers and Electro-Optics, CLEO 2019
国/地域United States
CitySan Jose
Period19/5/519/5/10

ASJC Scopus subject areas

  • 分光学
  • 産業および生産工学
  • 安全性、リスク、信頼性、品質管理
  • 管理、モニタリング、政策と法律
  • 電子材料、光学材料、および磁性材料
  • 放射線学、核医学およびイメージング
  • 器械工学
  • 原子分子物理学および光学

フィンガープリント

「Theoretical and experimental analysis on Ar Implantation-Induced Quantum Dot Intermixing for 1550 nm-Band Photonic Integrated Circuit」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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