Thermal annealing behavior of defects induced by ion implantation in thermally grown SiO2 films

Kwang Soo Seol, Toshifumi Karasawa, Yoshimichi Ohki, Hiroyuki Nishikawa, Makoto Takiyama

研究成果: Article査読

6 被引用数 (Scopus)

フィンガープリント 「Thermal annealing behavior of defects induced by ion implantation in thermally grown SiO<sub>2</sub> films」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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