Ultrathin SiO2 film growth on Si by highly concentrated ozone

S. Ichimura*, A. Kurokawa, K. Nakamura, H. Itoh, H. Nonaka, K. Koike

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フィンガープリント

「Ultrathin SiO<sub>2</sub> film growth on Si by highly concentrated ozone」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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