Uniform characteristics of Si-wire waveguide devices fabricated on 300 mm SOI wafers by using ArF immersion lithography

Yuichiro Tanushi, Tomohiro Kita, Munehiro Toyama, Miyoshi Seki, Keiji Koshino, Nobuyuki Yokoyama, Minoru Ohtsuka, Akinobu Sugiyama, Eiichi Ishitsuka, Tsukuru Sano, Tsuyoshi Horikawa, Hirohito Yamada

研究成果: Conference contribution

4 被引用数 (Scopus)

抄録

We have investigated characteristics uniformity of Si-wire waveguide devices formed on 300 mm SOI wafers by using ArF immersion lithography process. Very low dispersion of group indices within wafers was confirmed from measurements of asymmetric Mach-Zhender interferometers.

本文言語English
ホスト出版物のタイトル2013 IEEE 10th International Conference on Group IV Photonics, GFP 2013
ページ105-106
ページ数2
DOI
出版ステータスPublished - 2013 12 31
外部発表はい
イベント2013 IEEE 10th International Conference on Group IV Photonics, GFP 2013 - Seoul, Korea, Republic of
継続期間: 2013 8 282013 8 30

出版物シリーズ

名前IEEE International Conference on Group IV Photonics GFP
ISSN(印刷版)1949-2081

Other

Other2013 IEEE 10th International Conference on Group IV Photonics, GFP 2013
国/地域Korea, Republic of
CitySeoul
Period13/8/2813/8/30

ASJC Scopus subject areas

  • 電子工学および電気工学
  • セラミックおよび複合材料
  • 電子材料、光学材料、および磁性材料

フィンガープリント

「Uniform characteristics of Si-wire waveguide devices fabricated on 300 mm SOI wafers by using ArF immersion lithography」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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