Uniform characteristics of Si-wire waveguide devices fabricated on 300 mm SOI wafers by using ArF immersion lithography

Yuichiro Tanushi, Tomohiro Kita, Munehiro Toyama, Miyoshi Seki, Keiji Koshino, Nobuyuki Yokoyama, Minoru Ohtsuka, Akinobu Sugiyama, Eiichi Ishitsuka, Tsukuru Sano, Tsuyoshi Horikawa, Hirohito Yamada

研究成果: Conference contribution

4 被引用数 (Scopus)

フィンガープリント

「Uniform characteristics of Si-wire waveguide devices fabricated on 300 mm SOI wafers by using ArF immersion lithography」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

Engineering & Materials Science