XPS analysis of ultrathin SiO2 film growth on Si by ozone

S. Ichimura*, K. Koike, A. Kurokawa, K. Nakamura, H. Itoh

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フィンガープリント

「XPS analysis of ultrathin SiO2 film growth on Si by ozone」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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